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半導體晶體生長系列
· 氮化鎵晶體生長室（高溫高壓鈉流法）
用途：
主要用于45#鋼及鋁型材等的真空水淬處理。
優(yōu)勢與特點：
新型加熱室結(jié)構(gòu)，加熱更均勻，損耗功率小，更節(jié)能。
復合閘板閥具有良好的隔熱、隔氣效果。運行定位準確，動作重復性好。
工件移送時間短，并設(shè)有緩沖裝置。
多組冷卻噴淋裝置，冷卻均勻，一致。
可選項：
大氣水淬
臥式真空水淬
立式真空水淬
可根據(jù)客戶要求定制。
地址：沈陽市大東區(qū)萬柳塘路2號
傳真：024-24809927
Email：yb@sy-vac.com
網(wǎng)址：m.jdwcb.com
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