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半導(dǎo)體晶體生長系列
· 氮化鎵晶體生長室（高溫高壓鈉流法）
用途：
1、主要用于在氫氣或成型氣體氣氛中對硬質(zhì)合金、陶瓷材料、磁性材料和稀有難熔金屬等進行還原、燒結(jié)、退火和表面處理等工藝。
2、主要用于在真空高溫環(huán)境中需要還原氣氛的材料釬焊。
3、主要用于粉末材料還原燒結(jié)成型。
廣泛應(yīng)用于航空航天、熱處理、粉末冶金、磁性材料等領(lǐng)域。
可選項：
1、內(nèi)熱式
2、外熱式
可根據(jù)客戶需求定制。
地址：沈陽市大東區(qū)萬柳塘路2號
傳真：024-24809927
Email：yb@sy-vac.com
網(wǎng)址：m.jdwcb.com
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